スポンサーリンク

シリコン酸化膜について

シリコン酸化膜についてです。
シリコン(Si)の表面は酸化膜のあるなしで水の親水性と疎水性が変化します。
親水性は水が傾けたりした際に、その状態を保持しようとしてなかなか水切れがならない状態です。(ぬれがよい)
この状態はSiウェーハ(wafer)と水の接触角が小さい状態です。
通常の熱酸化膜、CVD膜、ケミカル酸化膜、自然酸化膜などが形成されていいる場合に親水性になります。
疎水は逆に酸化膜をHF(フッ酸)で除去を行い、表面がH-終端されている場合で、水を弾きます。(ぬれがわるい)
この現象を利用することで、疎水性から親水性に変化を確認することで酸化膜が除去できているか確認できます。
ただし、除去後は、水の乾燥をしっかりと行わないとウォータマーク(water mark)などがきてしまいます。
ウォータマークは水とsiの間に反応生成物として酸化膜ができる現象です。ウォータマークは半導体プロセスでは、不良チップができる原因の一つです。
また、しっかりと除去できたあとでもそのまま大気中に放置すると自然酸化膜(10Å程度)ができてしまいます。


参考リンク



written by gatamix

コメントを残す

メールアドレスが公開されることはありません。 * が付いている欄は必須項目です

スポンサーリンク